不同于普通的保护膜或胶带，光学膜必须厚薄均匀，表面要求无尘、少晶点，这对涂布技术提出了更高的要求，要求制得的膜厚薄更均匀。因此，精密涂布工艺也逐渐发展起来并不断地完善。光学膜涂层传统上采用真空蒸镀、化学沉积、等离子聚合等方法制备，这些方法难以实现卷式薄膜基材的大规模生产；在现代涂布工艺中，常用的涂布方式有浸涂、辊涂、坡流式挤压涂布、落帘涂布等。这些涂布方式各适用于不同性能的物料和涂层厚度，有各自的优缺点。如浸涂的涂布量不易控制，受物料的特性和温度影响较大；辊涂涂布的涂层的厚度便于控制，涂布量比较容易控制，均匀度较好，但受物料特性影响较大，适应物料黏度范围较窄；坡流式挤压涂布虽然涂布量容易控制，但适应物料黏度范围较窄，涂布量太小时不易涂布，并且不能涂到边缘，造成基材浪费；落帘涂布是一种预计量涂布方式，其操作简易，纵向、横向涂层厚度都非常均匀，涂层没有刮痕、条痕、橘皮纹，但落帘容易受车速等因素影响，因此，稳定落帘是一个大问题。

  当前使用的涂层的厚度变化范围大，有的涂层很薄，表面要求均匀、平滑。为了提高生产能力，涂布速度要高，所以有的研究机构开始研究微凹版辊涂布和条缝式涂布。微凹版辊涂布具有容易操作，涂布量范围宽，节省基材，基材的厚薄适应范围广，涂布表观现性好，表面平滑、有光泽等优点。条缝式涂布是一种预计量的涂布方式，涂层均匀，可实现大尺寸涂布，超薄层涂布。这两种涂布方式是继一次多层坡流挤压涂布和落帘涂布等精密涂布工艺技术后发展起来的新的精密涂布工艺技术，逐渐在平板显示、光电子产品、锂电池等相关产品制备中应用起来。

  微凹版涂布方式首先由日本富士公司提出，主要涂布高端功能薄膜，在其抗反射膜制备工艺中曾采用了微凹版涂布方式，其他的如柯尼卡美能达公司、日立麦克赛尔公司等在相关产品中也采用了微凹版涂布设备。

  条缝涂布方式也是日本富士公司最早开发应用。富士公司制备了一种防反射膜，该防反射膜具有4 层结构，即基材／硬质层／中折射率层／高折射率层／低折射率层，优选条缝涂布方式。黄尚鸿曾对条缝涂布嘴腔体设计进行了研究，研讨了条缝涂布嘴各组成部分的作用，指出分配腔的构造要使压力分配合理、减少漩涡，并与狭缝适配，按需要设置副腔，使物料在涂布嘴的滞留时间相同等设计和制造条缝涂布嘴的关键因素。

微凹版涂布系统和条缝涂布系统是一种涉及弹性流体动力学的精密涂布系统，需要在涂布洁净度要求高的环境下涂布，任何的灰尘和杂质都对涂布有重要影响，需要按照ISO 洁净度标准来新建厂房，严格执行洁净度各项规章制度。